電子元器件
電子元器件
11.10.RS觸發器:
電路結構
把兩個與非門G1、G2的輸入、輸出端交叉連接,即可構成基本RS觸發器,其邏輯電路如圖7.2.1.(a)所示。它有兩個輸入端R、S和兩個輸出端Q、Q。
工作原理 :
基本RS觸發器的邏輯方程為:
根據上述兩個式子得到它的四種輸入與輸出的關系:
1.當R=1、S=0時,則Q=0,Q=1,觸發器置1。 2.當R=0、S=1時,則Q=1,Q=0,觸發器置0。
如上所述,當觸發器的兩個輸入端加入不同邏輯電平時,它的兩個輸出端Q和Q有兩種互補的穩定狀態。一般規定觸發器Q端的狀態作為觸發器的狀態。通常稱觸發器處于某種狀態,實際是指它的Q端的狀態。Q=1、Q=0時,稱觸發器處于1態,反之觸發器處于0態。S=0,R=1使觸發器置1,或稱置位。因置位的決定條件是S=0,故稱S 端為置1端。R=0,S=1時,使觸發器置0,或稱復位。
同理,稱R端為置0端或復位端。若觸發器原來為1態,欲使之變為0態,必須令R端的電平由1變0,S端的電平由0變1。這里所加的輸入信號(低電平)稱為觸發信號,由它們導致的轉換過程稱為翻轉。由于這里的觸發信號是電平,因此這種觸發器稱為電平控制觸發器。從功能方面看,它只能在S和R的作用下置0和置1,所以又稱為置0置1觸發器,或稱為置位復位觸發器。其邏輯符號如圖7.2.1(b)所示。由于置0或置1都是觸發信號低電平有效,因此,S端和R端都畫有小圓圈。
3.當R=S=1時,觸發器狀態保持不變。
觸發器保持狀態時,輸入端都加非有效電平(高電平),需要觸發翻轉時,要求在某一輸入端加一負脈沖,例如在S端加負脈沖使觸發器置1,該脈沖信號回到高電平后,觸發器仍維持1狀態不變,相當于把S端某一時刻的電平信號存儲起來,這體現了觸發器具有記憶功能。
4.當R=S=0時,觸發器狀態不確定
在此條件下,兩個與非門的輸出端Q和Q全為1,在兩個輸入信號都同時撤去(回到1)后,由于兩個與非門的延遲時間無法確定,觸發器的狀態不能確定是1還是0,因此稱這種情況為不定狀態,這種情況應當避免。從另外一個角度來說,正因為R端和S端完成置0、置1都是低電平有效,所以二者不能同時為0。
此外,還可以用或非門的輸入、輸出端交叉連接構成置0、置1觸發器,其邏輯圖和邏輯符號分別如圖7.2.2(a)和7.2.2(b)所示。這種觸發器的觸發信號是高電平有效,因此在邏輯符號的S端和R端沒有小圓圈。
2.特征方程
基本RS觸發器的特性:
1.基本RS觸發器具有置位、復位和保持(記憶)的功能;
2.基本RS觸發器的觸發信號是低電平有效,屬于電平觸發方式;
3.基本RS觸發器存在約束條件(R+S=1),由于兩個與非門的延遲時間無法確定;當R=S=0時,將導致下一狀態的不確定。
4.當輸入信號發生變化時,輸出即刻就會發生相應的變化,即抗干擾性能較差。
第十二節 TTL邏輯門電路
以雙極型半導體管為基本元件,集成在一塊硅片上,并具有一定的邏輯功能的電路稱為雙極型邏輯集成電路,簡稱TTL邏輯門電路。稱Transistor-Transistor Logic,即BJT-BJT邏輯門電路,是數字電子技術中常用的一種邏輯門電路,應用較早,技術已比較成熟。TTL主要有BJT(Bipolar Junction Transistor 即雙極結型晶體管,晶體三極管)和電阻構成,具有速度快的特點。最早的TTL門電路是74系列,后來出現了74H系列,74L系列,74LS,74AS,74ALS等系列。但是由于TTL功耗大等缺點,正逐漸被CMOS電路取代。
12.1 CMOS邏輯門電路
CMOS邏輯門電路是在TTL電路問世之后 ,所開發出的第二種廣泛應用的數字集成器件,從發展趨勢來看,由于制造工藝的改進,CMOS電路的性能有可能超越TTL而成為占主導地位的邏輯器件 。CMOS電路的工作速度可與TTL相比較,而它的功耗和抗干擾能力則遠優于TTL。此外,幾乎所有的超大規模存儲器件 ,以及PLD器件都采用CMOS藝制造,且費用較低。
早期生產的CMOS門電路為4000系列 ,隨后發展為4000B系列。當前與TTL兼容的CMO器件如74HCT系列等可與TTL器件交換使用。下面首先討論CMOS反相器,然后介紹其他CMO邏輯門電路。
MOS管結構圖
MOS管主要參數:
1.開啟電壓VT
·開啟電壓(又稱閾值電壓):使得源極S和漏極D之間開始形成導電溝道所需的柵極電壓;
·標準的N溝道MOS管,VT約為3~6V;
·通過工藝上的改進,可以使MOS管的VT值降到2~3V。
2. 直流輸入電阻RGS
·即在柵源極之間加的電壓與柵極電流之比
·這一特性有時以流過柵極的柵流表示
·MOS管的RGS可以很容易地超過1010Ω。
3. 漏源擊穿電壓BVDS
·在VGS=0(增強型)的條件下 ,在增加漏源電壓過程中使ID開始劇增時的VDS稱為漏源擊穿電壓BVDS
·ID劇增的原因有下列兩個方面:
(1)漏極附近耗盡層的雪崩擊穿
(2)漏源極間的穿通擊穿
·有些MOS管中,其溝道長度較短,不斷增加VDS會使漏區的耗盡層一直擴展到源區,使溝道長度為零,即產生漏源間的穿通,穿通后
,源區中的多數載流子,將直接受耗盡層電場的吸引,到達漏區,產生大的ID
4. 柵源擊穿電壓BVGS
·在增加柵源電壓過程中,使柵極電流IG由零開始劇增時的VGS,稱為柵源擊穿電壓BVGS。
5. 低頻跨導gm
·在VDS為某一固定數值的條件下 ,漏極電流的微變量和引起這個變化的柵源電壓微變量之比稱為跨導
·gm反映了柵源電壓對漏極電流的控制能力
·是表征MOS管放大能力的一個重要參數
·一般在十分之幾至幾mA/V的范圍內
6. 導通電阻RON
·導通電阻RON說明了VDS對ID的影響 ,是漏極特性某一點切線的斜率的倒數
·在飽和區,ID幾乎不隨VDS改變,RON的數值很大 ,一般在幾十千歐到幾百千歐之間
·由于在數字電路中 ,MOS管導通時經常工作在VDS=0的狀態下,所以這時的導通電阻RON可用原點的RON來近似
·對一般的MOS管而言,RON的數值在幾百歐以內
7. 極間電容
·三個電極之間都存在著極間電容:柵源電容CGS 、柵漏電容CGD和漏源電容CDS
·CGS和CGD約為1~3pF
·CDS約在0.1~1pF之間
8. 低頻噪聲系數NF
·噪聲是由管子內部載流子運動的不規則性所引起的
·由于它的存在,就使一個放大器即便在沒有信號輸人時,在輸 出端也出現不規則的電壓或電流變化
·噪聲性能的大小通常用噪聲系數NF來表示,它的單位為分貝(dB)
·這個數值越小,代表管子所產生的噪聲越小
·低頻噪聲系數是在低頻范圍內測出的噪聲系數
·場效應管的噪聲系數約為幾個分貝,它比雙極性三極管的要小